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詳細介紹
特點：
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率，產率高達99％
? 一步自動釋放功能，可防止分離過程中模具/基材損壞，使壓印產量增大
? 支持各種類型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸，靈活方便
? 可編程PLC，通過自定義參數進行過程控制，帶觸摸屏用戶界面
? 對準功能選項
? 多種工藝，適用于各種應用光學器件，顯示器，數據存儲，生物醫學器件，半導體IC，化學合成和*材料等
? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制，并且與傳統的光刻工藝兼容
PL600
基材尺寸，6“標準（尺寸較小，形狀不規則）
印記區： 與晶圓尺寸相同。
模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”
壓印壓力: 1 psi標準
模具/基材自動釋放: 包括 - 不需要特殊工具
紫外線曝光時間:在95％強度水平下2-3分鐘
對準功能: x，y，z和theta（精度2um）
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