美國(guó)Anatech等離子刻蝕機(jī)在PCB線路板行業(yè)去膠渣制程的應(yīng)用

更新時(shí)間：2021-09-23 點(diǎn)擊次數(shù)：1159

　　等離子體又叫做電漿，是由有些電子被掠奪后的原子及原子被電離后發(fā)生的正負(fù)電子構(gòu)成的離子化氣體狀物質(zhì)，也有稱(chēng)其為物質(zhì)的第四相態(tài)。等離子體相態(tài)是因?yàn)樵又屑せ碾娮雍头肿訜o(wú)序運(yùn)動(dòng)的狀況，所以具有適當(dāng)高的能量。

　　(1)美國(guó)Anatech等離子刻蝕機(jī)-機(jī)理：

　　在真空室內(nèi)部的氣體分子里施加能量(如電能)，由加快電子的抵觸，使分子、原子的外層電子被激化，并生成離子，或反響性高的自由基。

　　如此發(fā)生之離子、自由基被接連的抵觸和受電場(chǎng)效果力而加快，使之與資料外表碰撞，并損壞數(shù)微米規(guī)模以?xún)?nèi)的分子鍵，誘導(dǎo)減少一定厚度，生成高低外表，同時(shí)構(gòu)成氣體成分的官能團(tuán)等外表的物理、化學(xué)變化，進(jìn)步鍍銅粘結(jié)力、除污等抄板效果。

　　戈德?tīng)朠CB-15V等離子刻蝕機(jī)用氣體多見(jiàn)的有氧氣、氮?dú)夂退姆細(xì)狻Ｏ旅娼?jīng)過(guò)由氧氣和四氟化碳?xì)馑鶚?gòu)成之混合氣體，舉例說(shuō)明等離子體處理之機(jī)理：V15

　　(2)美國(guó)Anatech等離子刻蝕機(jī)-用處：

　　1、凹蝕/去孔壁樹(shù)脂沾污；

　　2、進(jìn)步外表潮濕性(聚四氟乙烯外表活化處理)；

　　3、選用激光鉆孔之盲孔內(nèi)碳的處理；

　　4、改動(dòng)內(nèi)層外表形狀和潮濕性，進(jìn)步層間結(jié)合力；

　　5、去除抗蝕劑和阻焊膜殘留。

　　(3)PCB多層板等離子體處理-舉例：

　　A．純聚四氟乙烯資料的活化處理

　　關(guān)于純聚四氟乙烯資料的活化處理，是選用單步活化通孔技術(shù)。所用氣體絕大有些是氫氣和氮?dú)獾慕M合。

　　待處理PCB板無(wú)需加熱，因?yàn)榫鬯姆蚁┍惶幚沓苫钚裕睗裥杂兴黾印Ｕ婵帐乙坏┑竭_(dá)操作壓力，啟用工作氣體和射頻電源。

　　大多數(shù)純聚四氟乙烯抄板的處理僅需約20分鐘。但是，因?yàn)榫鬯姆蚁┵Y料的恢復(fù)功能(回復(fù)到不潮濕外表狀況)，化學(xué)沉銅之孔金屬化處理需在經(jīng)等離子體處理后的48小時(shí)內(nèi)完結(jié)。