Anric原子層沉積系統

占地面積小的桌面系統，兼容無塵室。

占地面積小的桌面系統（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）

具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。

4 英寸圓形卡盤可定制，適用于較小尺寸或其他形狀（11 毫米高）。

3 種有機金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應物。

整個加熱管線（從前體到腔室）。

高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態處理模式

全鋁（半導體級）腔室 ? 范圍高達 310°C

7″ 觸摸屏 PLC 控制器（無需 PC）

包括終身軟件升級

1 年保修（包括零件）

AT610

全鋁（半導體級）腔室 ? 范圍高達 310°C

具有超快 MFC 的高溫半導體級快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。

6″ 圓形卡盤（7″ 方形）可定制為更小的尺寸或其他形狀（11 毫米高）。

流線型腔體設計，腔體體積小

3 種有機金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應物。

整個加熱管線（從前體到腔室）。

簡單的系統維護和市場上的公用事業和前體使用

高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態處理模式

7″ 觸摸屏 PLC 控制器（無需 PC）