光刻機Mask Aligner

簡要描述：MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。

產(chǎn)品型號：MEMA-800
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2025-07-02
訪問量：2767

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類

掩膜曝光光刻機

Mask Aligner光刻機 Mask Aligner系列 NXQ系列查看全部產(chǎn)品

詳細介紹

光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學中的微機開發(fā)。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學/高速通信組件中。

二、技術參數(shù)：

1、目標分離：15?75毫米；

2、總放大倍率：100倍；

3、觀察照明器：紅色LED（λ= 633 nm）；

4、X，Y平臺移動范圍：±5毫米；

5、θ調(diào)整：±5°

6、主體電源和水銀燈：交流100V 50 / 60Hz 15A

7、真空源：低于21.3 Kpa（大氣壓為-80 Kpa）

8、鏡片：積分鏡

9、汞燈：250W超高壓蒸汽汞燈

10、有效接觸面積：大φ100毫米

11、強度分布：±5％以下

12、照度：20 mW / cm 2 （405納米）

13、曝光時間控制：數(shù)字計時器和旋轉(zhuǎn)螺線管

14、汞燈照明裝置：交流110V

三、產(chǎn)品特點：

經(jīng)濟，緊湊和高級性能
在視場中查看兩個對準標記的融合圖像。
用于曝光的積分鏡。
LED照明器

產(chǎn)品咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細地址：
補充說明：
驗證碼：

請輸入計算結果（填寫阿拉伯數(shù)字），如：三加四=7

上一篇：MSMA-1200M光刻機Mask MSMA
下一篇：MPEM-1600掩膜曝光光刻機Mask Aligner

光刻機Mask Aligner

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：